潍坊星泰克微电子材料有限公司创建于2010年。公司多年来致力于光刻胶的研发、生产和销售，坚持不懈、砥砺前行，成绩斐然。

光刻胶是一种半导体芯片和其他微电子器件制造工艺的核心材料，芯片上电路的密集程度或计算机的速度和容量，很大程度取决于光刻胶材料及技术。光刻胶材料和技术主要由美国和日本控制，国内高端集成电路制造所需光刻胶完全依赖进口。我国光刻胶研究始于20世纪70年代，与国际先进水平相比有较大差距，在产品上大约相差3代以上。国外主流技术是193nm及更高端光刻胶，而我国自己生产的248nm光刻胶仍在测试阶段，尚未投入大量使用。

公司建立了一流的技术研发团队，具有先进、完善的产品研发设备和手段。公司的主要产品为蓝宝石衬底（PSS）专用光刻胶、剥离（lift-off）光刻胶、柔性光刻胶、纳米压印光刻胶、SU-8厚胶等各类高端光刻胶及配套试剂，广泛应用于LED、LCD、IC、MEMS、封装等领域。公司产品技术指标达到了国内领先水平，部分产品技术指标达到国际先进水平。公司投放国内市场的光刻胶，部分取代了国外进口产品。公司研发生产的黑色光刻胶、248纳米光刻胶已通过国内权威机构测试，技术指标达到或超过国内领先水平，具备了产业化生产的技术条件。

公司产品均拥有全部的自主知识产权。“高硅光刻胶”属于理论创新，已经分别获得了中国、美国和日本的发明专利授权；“利用光刻胶沉积金属构形的新型剥离工艺方法”已获得了PCT发明专利的受理；截至目前，公司共拥有26项发明及实用新型专利。公司已承担了1项国家火炬计划、1项山东省自主创新与成果转化重大专项、2项省级技术创新项目。

技术创新是企业发展的灵魂和核心，也是企业驱动力的源泉。公司秉持“以技术求发展、向市场要效益”的经营宗旨，将一如既往地不断提高公司的研发能力和服务水平，为更多客户提供更加优质的产品和完善的技术服务，为我国微电子材料产业的发展竭尽所能。